南大光电 ArF 光刻胶在多个技术节点一起认证

发布时间：2022-01-08 14:39 所属栏目：15 来源：互联网

导读：南大光电在投资者互动平台表示，目前 ArF 光刻胶在多个技术节点同时认证，尚未涉及 14nm 技术节点。南大光电还表示，目前公司 MO 源和电子特气产品订单处于饱和状态。ArF 光刻胶可以用于 90nm-14nm 技术节点的集成电路制造工艺。公司目前研发的产品包含干式

南大光电在投资者互动平台表示，目前 ArF 光刻胶在多个技术节点同时认证，尚未涉及 14nm 技术节点。

南大光电还表示，目前公司 MO 源和电子特气产品订单处于饱和状态。ArF 光刻胶可以用于 90nm-14nm 技术节点的集成电路制造工艺。公司目前研发的产品包含干式光刻胶和浸没式光刻胶。

MO 源方面，公司除了在 MO 源 2.0 研发方面取得进展外，在高纯、低硅低氧三甲基铝方面加大研发力度，也取得了关键性的进展，为 MO 源业务从 LED 向 IC、新能源行业的升级转型奠定基础。前驱体方面，除了有客制产品的研发和产业化外，还要将去年从杜邦集团买入的硅前驱体专利进行研发和产业化，目前进展顺利。

据悉，光刻胶业务品控设备方面，南大光电购买了一些检测设备，包括光刻机，也用于检测光刻胶，属于光刻性能的检测，这是质量管控的一部分。对于其他的像纯度、颗粒度检测这块，南大光电做的是特种电子材料，我们过去已经有很深的技术基础。人员配备方面，为了更好地与客户沟通，我们聘请了具备丰富经验的光刻工程师，来管理光刻胶的质量控制部分。光刻胶原材料方面，我们南大光电的强项就是做合成，所以具备合成单体的能力。部分单体在国内一些企业已经产业化了，不属于卡脖子的材料，我们直接购买国内的；对于一些特殊的、高技术含量的关键单体，由我们自己设计、合成制备。所以可以说，制备光刻胶的单体都已经实现了本土化。

（编辑：ASP站长网）